社会需求日益增长的单晶硅与微电子产品生产所需高纯水净水设备生产厂家应加强研发和创新

我需要大量的高纯水来清洗单晶硅等硅材料、集成电路芯片及封装、液晶显示、光电器件和各种电子器件，以及微电子工业。这些产品的生产对水质精度要求很高，电阻度通常需要超过10兆欧/厘米。我使用的主要工艺包括反渗透水处理设备与离子交换设备组合，以及反渗透设备与电去离子（EDI）设备搭配。具体流程是这样的：原水先过沙炭过滤器和精密过滤器，然后通过反渗透或EDİ系统，最终到达用水点。

对于涂料、油漆和清洗剂的生产，我还需要根据不同产品对纯水精度要求的不同选择不同的工艺和流程。我提供了四种主要工艺，每一种都有其特定的流程和所需的最低电导率或者电阻值。一级反渗透方式可以达到≦10us/cm，二级反渗透方式可以达到≦2us/cm，离子交换方式可以达到≧5Ω /cm，而EDİ方式则可以达到≧15Ω /cm。这取决于我生产的是什么样的产品。